中国的军用芯片和光刻机处于世界什么水平？

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中国军用芯片产业很早就开始受到美国的禁运条款。包括欧洲也是禁运。

所以中国军用芯片。很早就开始了自主化的发展。中国在军用芯片上面的高强度投入。已经有20年多年了。

由于军用芯片有单独的体系。所以在民用市场并没有沾光太多。

军用芯片主要应用链。基本上都是国内行业的零头企业

（图片来自：长城证券）

国产CPU 在国防领域已广泛使用。国内自主研发的龙芯系列CPU 已经广泛的应用在航天、车载导航、交换机、军用电脑等领域。国产陆军和海军装备上的北斗导航一体化终端设备使用的是“龙芯1B”嵌入式CPU。

除了军用电脑使用龙芯CPU。指挥员的指挥机、单兵使用的终端机以及保密通信专用机均使用“龙芯”CPU。景嘉微的GPU取代进口芯片被军方采购。2014年景嘉微成功研发的 JM5400打破国外长期垄断GPU市场的局面。成功取代M9、M54、IMX6等进口芯片运用于军用显示器上。2018年最新研制GPUJM7200流片成功。目前已获得中电科下属单位的订单。国产DSP已经运用在军用雷达上。国产主流DSP有中电科38所的“魂芯”和中电科 14所的“华睿”。中电科38所研制的DSP“魂芯一号”已经成功运用在我国空警500预警机上。而2018年。“魂芯二号”和“华睿2号”均已流片。性能已经处于业界同类产品前列。有望应用于雷达、通信、工业机器人等领域。

光刻机方面。军用芯片是有专门的企业在研发光刻机的。目前实现了28nm制程

北方华创是半导体设备领域的“国家队”。是国家02重大科技专项承担单位。受到国家集成电路产业投资基金的大力支持。公司通过承担重大专项多项课题的科研任务。先后完成了12吋集成电路制造设备90-28nm等多个关键制程的攻关工作。目前所承担的02专项在研课题14nm制程设备也已交付至客户端进行工艺验证。据公司公告。公司已将产品陆续推向了高端集成电路装备市场。所开发的用于12吋晶圆制造的刻蚀机、PVD、CVD、立式氧化炉、扩散炉、清洗机和气体质量流量控制器等设备产品已成功实现了产业化。其中28nm及以上技术代制程设备已批量进入了国内主流集成电路生产线量产。部分产品更成为了国内龙头芯片厂商的量产线Baseline机台；各类8英寸集成电路设备也全面进驻国内主流代工厂和IDM企业。公司在集成电路装备领域所取得的研发与产业化成果。在国家芯片国产化战略中发挥了核心骨干的带头作用。（信息来自：方正证券）

国内军工企业。在各类品牌领域的应用。很早就可以独立自主生产了。并且。本身军工领域的芯片。同民用领域就有很大的区别。所有制程上面。并没有强调当下的7nm。5nm制程工艺。

其他观点：

众所周知我国在半导体行业由于起步晚、重视度不够。导致我国半导体行业相比于欧美国家来讲水平落后。虽然近年来我国一直在奋起直追。但是其中的差距并不是短时间可以弥补的。需要我们整合资源、人才全力进行研究。相信这个时间并不会太久！

我国在芯片设计方面并不落后于欧美国家。唯一欠缺的就是芯片制作和组装环节！由于芯片的制作需要用到光刻机。而全球最先进的光刻机只有荷兰一家公司能够制作。而这家公司的核心技术又是以美国为主导多国技术为辅的集合体！由于美国的从中阻拦。使我国一直无法购买到先进的光刻机。从而使得我国芯片制造技术一直无法停滞不前！

军用芯片和手机芯片不同。手机芯片更多的是追求是能耗低、体积小。而军用芯片更多的是追求耐用性、耐热性。对于体积要求并不大！所以我国目前的光刻机就可以完成军用芯片的生产。并且我国军用芯片都是自主研发。完全可以做到从设计到生产再到包装一条龙的国产化。从这一点来讲我国军用芯片方面依旧处于领先地位！而手机芯片的设计方面。我国也是顶尖的国家。像麒麟芯片在世界上都是顶尖的手机芯片。但是由于我国无法制作出来如此高端芯片。导致我国外手机芯片方面并不领先！

手机芯片无法生产。虽然会影响华为公司的手机业务。但是并不能动摇我国的根基！而军用芯片则是我国军事力量的重中之重。所以近年来我国对于军用芯片研发一直未曾停止。一直处于世界领先地位！

其他观点：

我国的中芯国际。由于采用了荷兰ASML的光刻机。是不能代工国内自主可控芯片、军用芯片的。这也是中芯国际购买荷兰ASML光刻机的保留条款。那么我国的军用芯片和光刻机处于什么水平呢？

军用芯片的特殊性

我国每年的芯片进口额高达2000亿美元。然而核心的军用芯片基本自给自足。并没有使用含有“美国技术”的光刻机生产。大部分军用芯片仍然采用了65nm、90nm。甚至130nm以下的工艺。

军用芯片对性能要求不高。对稳定性、可靠性以及各种复杂地磁环境下的抗干扰能力。拿工作温度来说。商用CPU约为0~70度。而军用CPU则为-55~125度。航天用的芯片工作温度范围更大。制造工艺上。商用的手机处理器、电脑CPU采用了14nm、7nm制程工艺。而美国的很多军用芯片依旧采用了65nm制程工艺。先进的制程工艺抗电磁干扰的性能会变差。

因此。国内自主设计的CPU、GPU等芯片。虽然在民用市场上缺乏竞争力。然而在军用芯片上广泛使用。比如我国的北斗卫星大量采用了龙芯处理器。

我国的光刻机

我国生产光刻机的企业是上海微电子。成立与2002年。主要集中于低端光刻机市场。我国光刻机技术起步晚。同时遭到了西方国家的技术封锁。因此。目前造出来的光刻机主要集中于90nm及其以下的芯片工艺制造。根据最新的消息。上海电子已经突破了28nm制程工艺。将会推动国产光刻机向前迈进一大步。

世界上最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机。可以生产5nm制程工艺的芯片。上海微电子量产90nm制程工艺光刻机。技术上相差85nm。而时间上可能有15年以上的差距。

总之。我国生产的光刻机。可以满足国内军用芯片、自主可控芯片的代工需求。毕竟军用芯片并不需要14nm以上的先进制程工艺。

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